不需求EUV光源国产光刻机有望进入10nm把握滋润式技能即可

  众所周知，光刻机是限制咱们芯片制作技能发展的重要设备之一了。由于在芯片制作环节之中，光刻机的本钱占35%，工时占到40%左右。

  偏偏这么重要的设备，国产的技能仍是较为落后的，现在仅能出产90nm芯片制作的光刻机，而ASML的EUV光刻机，能轻松完成到3nm节点了。

  所以怎么样进步国产光刻机技能，估量是国内很多网友、芯片企业们关怀的共同话题了。很多人以为把握EUV光刻机，或许是至关重要的一步，这样就可以直接搞定到10nm芯片，乃至7nm芯片。

  但事实上，关于光刻机而言，不需求EUV光源，也能搞定10nm芯片光刻，乃至7nm芯片的光刻，而现在国产光刻机也便是卡在这一环节，只需跨曩昔，有望进入到10nm节点。

  但需求的把握滋润式技能。咱们我们都知道现在在光刻机上有三种光源，一种是最原始的汞灯光源，不过那是良久前了，20年前运用的技能。

  后来发展到DUV光源，又有三种，那便是KrF、ArF，后来在进入到F2时卡住了，如下图，便是将光源波长减小到157时卡住了。

  这时候台积电的林本坚提出一个主意，那便是滋润式，本来的光刻机运用的介质是空气，那假如介质运用水呢？运用水的折射，是不是波长就变小了，精度更高了？

  所以ASML第一个试验，成功出产出第一台滋润式光刻机，运用193nm波长的光源，完成了等效134nm波长光源干的事情。

  最终经intel、台积电、三星这样的大厂试验发现，这种运用193nm波长的光源的光刻机，参加滋润式技能之后，可以一向运用到7nm的芯片制作。

  现在国内最强的光刻机厂商上海微电子，现已在运用ArF光源，出产出的光刻机可以适用于90nm的芯片制作，只需把握滋润式技能，就能进步很大一步，直接到10nm、乃至7nm也是有或许的。

  当然，这一步不容易迈出，但信任只需有支付，就会有收成，现在国产代替现已没办法阻挡了，信任上海微电子把握滋润式技能之后，国产光刻机会有长足发展，某些特定的程度上缓解光刻机卡脖子的问题。